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发明名称 Defect induced buried oxide (dibox) for throughput SOI
摘要
申请公布号 EP0926725(A3) 申请公布日期 2000.08.30
申请号 EP19980310584 申请日期 1998.12.22
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 SADANA, DEVENDRA KUMAR;DE SOUZA, JOEL P.
分类号 H01L21/265;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/762 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
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