| 发明名称 |
PROCEDIMENTO E DISPOSITIVO PER LA DEPOSIZIONE DI MATERIALE SEMICONDUTTORE. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT7828176(D0) |
申请公布日期 |
1978.09.28 |
| 申请号 |
IT19780028176 |
申请日期 |
1978.09.28 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/205;C23C16/52;C30B25/16;H01L21/31;(IPC1-7):B01J/ |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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