| 摘要 |
<P>L'invention concerne un procédé d'élimination d'hydrures gazeux sur un support solide à base d'oxydes métalliques, consistant à faire circuler un flux gazeux comprenant lesdits hydrures dilués dans un gaz inerte, à température ambiante, sur un support solide comprenant au moins du cuivre et du chrome et ayant une surface spécifique inférieure ou égale à 100 m2 /g. <BR/> Ce procédé peut être appliqué à la destruction des hydrures gazeux provenant de l'industrie des semi-conducteurs, par exemple les silanes, l'arsine, la phosphine, le diborane, le germane, le stannane, le gallane, la stibine, l'hydrogène telluré, l'hydrogène sélénié et l'hydrogène sulfuré.</P>
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