发明名称 直立式炉管气体分流管之固定装置
摘要 此处揭露了一种可固定直立式炉管其气体分流管的固定装置。此装置包括了一支撑环与形成于气体分流管底部之固定物。其中,支撑环可装设于直立式炉管中,且环绕于晶舟的边缘。并且,在支撑环外缘具有复数个开口,分别对应至尺寸相符之固定物。如此,当气体分流管装设于直立式炉管中时,位于气体分流管底部的固定物,会嵌入并笋接至开口中,而将气体分流管固定于支撑环上。
申请公布号 TW452182 申请公布日期 2001.08.21
申请号 TW089215682 申请日期 2000.09.08
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 曾恒毅;卓贵雄
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 李长铭 台北巿中山区南京东路二段二十一巷八号二楼
主权项 1.一种可固定直立式炉管其气体分流管的固定装置,该装置至少包括:支撑环,位于该直立式炉管中,可环绕于晶舟的边缘,其中该支撑环外缘具有开口;及固定物,位于该气体分流管的底部,当该气体分流管装设于该直立式炉管中时,该固定物会嵌入并笋接至该开口中,而将该气体分流管固定于该支撑环上。2.如申请专利范围第1项之装置,其中上述固定物可根据尺寸大小,在该支撑环上嵌入并笋接至相对应的该开口。3.如申请专利范围第1项之装置,其中上述气体分流管具有"L"形连结的垂直部份与水平部份,且该垂直部份上具有复数个小孔。4.如申请专利范围第3项之装置,其中上述固定物是位于该水平部份的下表面。5.如申请专利范围第3项之装置,其中上述固定物之尺寸是根据该气体分流管的长度、该小孔数目与尺寸而决定。6.如申请专利范围第5项之装置,其中上述支撑环上具有复数个该开口,且分别对应于尺寸不同之该固定物。7.如申请专利范围第1项之装置,其中上述开口是分布于该支撑环外缘,且贯穿该支撑环的上、下表面。8.如申请专利范围第1项之装置,其中上述开口是分布于该支撑环上表面外缘,且具有凹槽之形状。9.一种可固定直立式炉管其气体分流管的固定装置,该装置至少包括:支撑环,装设于该直立式炉管中,可环绕于晶舟的边缘,其中该支撑环外缘具有复数个开口;及复数支气体分流管,位于该直立式炉管中,用以通入反应气体,以便进行膜层沉积反应,其中在该气体分流管的底部并具有向下凸出的固定物,可嵌入并笋接至尺寸对应的该开口中,而将该气体分流管固定于该支撑环上。10.如申请专利范围第9项之装置,其中上述气体分流管具有彼此连结成"L"形外观之垂直部份与水平部份,且该垂直部份上具有复数个小孔,用以均匀的通入该反应气体。11.如申请专利范围第10项之装置,其中上述固定物之尺寸是根据该气体分流管的长度、该小孔数目与尺寸而决定。12.如申请专利范围第10项之装置,其中上述之固定物是由该水平部份的下表面向下凸出。13.如申请专利范围第9项之装置,其中上述开口是分布于该支撑环外缘,且贯穿该支撑环的上、下表面。14.如申请专利范围第9项之装置,其中上述开口是分布于该支撑环上表面外缘,且具有凹槽之形状。15.如申请专利范围第9项之装置,其中上述支撑环可装设于该直立式炉管之外壳内壁。图式简单说明:第一图为结构截面图,显示目前所使用直立式炉管其主要元件之相关架构;第二图A为元件俯视图,显示本创作所提供支撑环与对应的气体分流管之相关结构;第二图B为元件侧视图,显示本创作所提供支撑环其侧边结构;第三图为元件俯视图,显示使用本创作所提供支撑环,来固定气体分流管之方法;第四图为元件俯视图,显示本创作所提供支撑环、气体分流管、与直立式炉管外壳之连结方式;及第五图为结构截面图,显示本创作所提供直立式炉管其主要元件之结合关系。
地址 新竹科学工业园区园区三路一二一号