发明名称 Halbleiteranordnungsteststrukturen und Verfahren
摘要 Halbleiteranordnungsteststrukturen und Verfahren werden offenbart. In einem bevorzugten Ausführungsbeispiel beinhaltet eine Teststruktur eine Zuleitung, eine Beanspruchungsleitung, die in der Nähe der Zuleitung angeordnet ist, und ein leitendes Merkmal, das zwischen der Beanspruchungsleitung und der Zuleitung angeordnet ist. Die Testruktur beinhaltet einen Temperatureinsteller in der Nähe zumindest des leitenden Merkmals und zumindest eine Rückmeldungsanordnung, die an den Temperatureinsteller und zumindest das leitende Merkmal gekoppelt ist.
申请公布号 DE102008000218(A1) 申请公布日期 2008.09.11
申请号 DE20081000218 申请日期 2008.02.01
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 WALTER, WOLFGANG
分类号 H01L23/544;G01R31/28;H01L21/66 主分类号 H01L23/544
代理机构 代理人
主权项
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