| 发明名称 |
Plasmagestuetztes CVD-Verfahren fuer Titannitrid unter Einsatz von Ammoniak. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CH689640(A5) |
申请公布日期 |
1999.07.30 |
| 申请号 |
CH19970002135 |
申请日期 |
1995.11.27 |
| 申请人 |
MATERIALS RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
FOSTER, ROBERT F. |
| 分类号 |
C23C16/34;H01L21/768;(IPC1-7):C23C16/34;C23C16/50 |
主分类号 |
C23C16/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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