| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Erkennung der Anwesenheit eines Wafers in einer automatischen Poliervorrichtung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19913365(C2) |
申请公布日期 |
2002.07.18 |
| 申请号 |
DE19991013365 |
申请日期 |
1999.03.24 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
HEITZSCH, OLAF;BRADL, STEPHAN |
| 分类号 |
G01V1/00;B23Q17/00;B23Q17/22;B24B37/00;B25J9/16;H01L21/304;H01L21/67;(IPC1-7):B23Q17/22;B24B49/04;G01V9/00;G08C23/04 |
主分类号 |
G01V1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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