摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Strahlungshärtung einer Beschichtung eines Substrats (2; 46), wobei die Beschichtung an einem Bestrahlungsort während einer gegebenenfalls durch eine Relativbewegung des Substrats (2) definierten Bestrahlungsdauer von mindestens einem UV-Strahler (34) mit UV-Licht bestrahlt wird und wobei von einer Gaszufuhreinrichtung (20, 22, 24, 26, 28) ein Inertgas zugeführt wird, um die negative Einwirkung von Sauerstoff auf die Beschichtung zu reduzieren. Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, dass das Inertgas nur während eines Teils der Bestrahlungsdauer zugeführt wird und dass während des verbleibenden Teils der Bestrahlungsdauer die Inertgaszufuhr unterbrochen wird.
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