| 发明名称 |
METHOD OF LITHOGRAPHIC IMAGING WITHOUT DEFFECTS OF ELECTROSTATIC ORIGIN |
| 摘要 |
<p>리소그래픽 프린팅 플레이트들에서 정전기에 의한 결함들은 다양한 플레이트 층들의 유전성을 감소시키거나 최소화함으로써 방지된다. 이것은 시스템의 캐퍼시턴스를 감소시키고, 주어진 축적 전하로부터 발생하는 전압 및 그에 따른 아크의 가능성을 감소시킨다. 이것은 플레이트의 기판에 도전막을 사용함으로써 달성될 수 있다.</p> |
| 申请公布号 |
KR100312396(B1) |
申请公布日期 |
2001.11.03 |
| 申请号 |
KR19990032676 |
申请日期 |
1999.08.10 |
| 申请人 |
프레스텍, 인크. |
发明人 |
루이스,토마스이. |
| 分类号 |
B41C1/055;B41C1/10;B41N1/14 |
主分类号 |
B41C1/055 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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