发明名称 Substrat und Verfahren zu dessen Herstellung, Lichtemissionselement und Verfahren zu dessen Herstellung und Vorrichtung mit dem Substrat oder Lichtemissionselement
摘要 Es werden ein Substrat mit einem gewünschten Muster auf einer Ebene davon und ein Verfahren zu dessen Herstellung, ein Lichtemissionselement und ein Verfahren zu dessen Herstellung sowie eine Vorrichtung mit dem Substrat oder dem Lichtemissionselement bereitgestellt, die die Bildung des Musters ohne Fotoresistfilm erlauben und eine Reduktion der Anzahl von Schritten sowie eine Senkung der Kosten im Zusammenhang mit der Reduktion der Anzahl von Schritten ermöglichen. Es wird ein flaches Substrat bereitgestellt, ein eine lichtempfindliche Substanz enthaltender Nichtleiter auf einer Ebene des Substrats gebildet, der Nichtleiter strukturiert, um ein gewünschtes Muster auf der Substratebene zu erzeugen, sodass ein Substrat entsteht, das ein Muster aus inselförmigen Vorsprüngen auf der Ebene des flachen Substrats aufweist und in dem die Vorsprünge aus dem Nichtleiter konfiguriert sind.
申请公布号 DE112014004318(T5) 申请公布日期 2016.07.07
申请号 DE20141104318T 申请日期 2014.08.25
申请人 NAMIKI SEIMITSU HOUSEKI KABUSHIKI KAISHA;Toray Industries, Inc. 发明人 Aota, Natsuko;Aida, Hideo;Kamogawa, Masao;Suwa, Mitsuhito;Kimura, Yutaka
分类号 H01L33/22;H01L21/316 主分类号 H01L33/22
代理机构 代理人
主权项
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