发明名称 Thin film deposition apparatus using normal incidence of a pulsed laser
摘要 <p>본 발명은 증착장치에 관한 것으로서, 특히 일정한 두께로 박막이나 다층박막을 균일하게 형성하는 펄스 레이저의 수직 입사를 이용한 박막 증착장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 증착 장치는 렌즈에 의해 집속된 레이저빔을 진공챔버의 윈도우를 통하여 입사시켜 상기 진공챔버내의 기판에 박막을 형성시키는 펄스 레이저의 수직 입사를 이용한 박막 증착장치로서, 상기 진공챔버의 윈도우를 통하여 입사된 펄스 레이저 빔의 방향과 직교하여 상기 렌즈의 초점 거리 위치에 설치된 핀홀을 가진 박판; 상기 금속 박판 아래쪽 소정의 위치에 상기 레이저 빔의 방향과 직교하여 설치되어 타겟을 고정하는 타겟고정부; 상기 타겟고정부로부터 소정의 상단 위치로 이격되어 박막을 형성시킬 상기 기판을 고정하는 기판고정부; 및 상기 기판고정부를 회전시켜 상기 기판에 균일하게 박막을 형성시키기 위한 제1모터제어부를 포함함을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 수직 입사 펄스 레이저를 이용한 증착장치는 레이저 빔을 타겟면에 수직으로 입사시켜 타겟에서 발생되는 플룸(plume)의 방향을 일정하게 유지시키고, 알루미늄 포일을 통하여 레이저를 입사시킴으로써 윈도우에 플룸이 증착되는 것을 방지하여 일정하고 균일한 박막층들을 형성시키는 것을 가능하게 한다.</p>
申请公布号 KR100319396(B1) 申请公布日期 2002.01.05
申请号 KR19990052987 申请日期 1999.11.26
申请人 null, null 发明人 김동언;전인준
分类号 H01S5/30 主分类号 H01S5/30
代理机构 代理人
主权项
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