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发明名称 METHOD FOR FORMING GATE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR0157855(B1) 申请公布日期 1999.02.01
申请号 KR19890007136 申请日期 1989.05.27
申请人 LG SEMICONDUCTOR CO., LTD. 发明人 PARK, NAM-KYU
分类号 H01L21/145;(IPC1-7):H01L21/145 主分类号 H01L21/145
代理机构 代理人
主权项
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