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Procedimiento de perfusión y pasivación para la limpieza de un implante, que comprende someter a un implante contenido en una cámara a una exposición cíclica de aumento y disminución de presión por encima de una atmósfera o por debajo de una atmósfera, o ambos; comprendiendo el procedimiento las etapas siguientes: rellenar la cámara con una disolución limpiadora o una mezcla de disoluciones limpiadoras; evacuar la cámara; presurizar la cámara, y realizar un ciclo entre las etapas de evacuación y de presurización durante más de un ciclo y hasta 150 ciclos; en el que dicho implante consiste en tejido de aloinjerto o de xenoinjerto, y opcionalmente un material metálico o sintético, o sus combinaciones.
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