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发明名称
エピタキシャル反応器
摘要
実施例は、反応室、前記反応室内に位置し、ウエハーを載せるサセプタ、及び前記反応室内に流入するガスの流動を制御するガス流動制御部を含み、前記ガス流動制御部は、ガスの流れを分離する複数のガス流出口を有するインジェクトキャップ、及び前記複数のガス流出口のそれぞれに対応する各貫通ホールを含む複数のバッフルを含み、前記複数のバッフルのそれぞれは、互いに分離され、前記複数のガス流出口のうち対応するいずれか一つに隣接して配置される。【選択図】図1
申请公布号
JP2016525800(A)
申请公布日期
2016.08.25
申请号
JP20160529723
申请日期
2014.08.08
申请人
エルジー・シルトロン・インコーポレーテッド
发明人
キム,イン キュム;ホ,ヨン ムン
分类号
H01L21/205;C23C16/455
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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