发明名称 AQUEOUS DEVELOPING SOLUTIONS FOR REDUCED DEVELOPER RESIDUE
摘要 <p>본 발명은 스컴 방지제로서 하기 화학식 1의 에톡시화된 계면활성제를 함유하는 포토레지스트 등을 현상하기 위한 알칼리 수성 현상 용액을 제공한다. 상기 식 중, AO는 산화 에틸렌 유닛(CH-CH-O)과 산화 프로필렌 유닛(CH(CH)-CH-O) 또는 (CH-CH(CH)-O) 중에서 선택되는 산화 알킬렌 유닛이고, R은 소수성 기이며, X는 H 또는 음이온 기이고, m은 1 내지 3이며, n은 약 8 이상이고, 전체 산화 에틸렌 유닛 대 전체 산화 프로필렌 유닛의 몰 비는 약 1:4 내지 약 4:1이며, 바람직하게는 약 2:3 내지 약 3:2이다.</p>
申请公布号 KR100326617(B1) 申请公布日期 2002.03.02
申请号 KR19990014962 申请日期 1999.04.27
申请人 null, null 发明人 바르로버트;런디다니엘이
分类号 G03F7/32 主分类号 G03F7/32
代理机构 代理人
主权项
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