| 主权项 |
1.一种监认系统,包含:一输入,由一物件承载;一参考,与该输入相关;以及一相关器,系将输入以及参考予以相关,而判定该输入是否为监认。2.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该输入以及该参考,包含具有多数个成对的相位体积结构之相位体积遮罩。3.如申请专利范围第2项之监认系统,其中每个结构具有高度对宽度之高宽比为至少1:1。4.如申请专利范围第3项之监认系统,其中至少多数个结构,系具有高宽比至少约为2:1。5.如申请专利范围第2项之监认系统,进一步包含一覆盖每个结构之一保护层。6.如申请专利范围第5项之监认系统,其中该保护层系较该结构为坚硬。7.如申请专利范围第6项之监认系统,其中该保护层系由钻石、钻石尘、或类似钻石材质所构成。8.如申请专利范围第6项之监认系统,其中该保护层系由反射材质所制。9.如申请专利范围第8项之监认系统,其中该反射材质系由铝所构成。10.如申请专利范围第5项之监认系统,进一步包含覆盖每个该等结构之过滤器。11.如申请专利范围第10项之监认系统,其中该过滤器系覆盖该保护层。12.如申请专利范围第10项之监认系统,其中该过滤器系由不透明于x光射线之低折射率材质所构成。13.如申请专利范围第10项之监认系统,其中该过滤器系由阻碍至少60%之X光射线以及阻碍具有不大于约18.4奈米之波长的射线之通过该材质并到达该结构之材质所制。14.如申请专利范围第13项之监认系统,其中该过滤器材质系由低折射率环氧树脂所构成。15.如申请专利范围第14项之监认系统,其中该环氧树脂具有不大于约1.58之折射率。16.如申请专利范围第2项之监认系统,其中每个结构具有不大于六微米之大小。17.如申请专利范围第16项之监认系统,其中每个结构具有不大于约一微米之大小。18.如申请专利范围第2项之监认系统,其中该等结构系以随机图样而建构。19.如申请专利范围第18项之监认系统,其中该随机图样系包含一随机图样。20.如申请专利范围第19项之监认系统,其中该随机图样系包含一散斑图样。21.如申请专利范围第2项之监认系统,其中该相位体积遮罩之该等结构系以由(1)随机图样以及(2)预设图样所构成之假随机图样而建构。22.如申请专利范围第21项之监认系统,其中预设图案系包含一生物测定图样。23.如申请专利范围第22项之监认系统,其中生物测定图样包含一指印、网膜图样、语音或面部影像。24.如申请专利范围第21项之监认系统,其中该预设图样系包含一非随机之非线性图样。25.如申请专利范围第24项之监认系统,其中该预设图样系以随机图样而旋转以形成该假随机图样。26.如申请专利范围第25项之监认系统,其中该遮罩系包含一相位旋转遮罩。27.如申请专利范围第2项之监认系统,其中该遮罩具有在遮罩表面区域之每个平方公分中,具有至少约一亿个结构。28.如申请专利范围第2项之监认系统,其中另一个输入以及参考系包含一空间光线模组器。29.如申请专利范围第28项之监认系统,其中该空间光线模组器包含具有图素阵列之液晶面板,其中每个图素之相位可经选择性的变动。30.如申请专利范围第29项之监认系统,进一步包含一操作连接至液晶面板之控制器,以控制每个其元件之相位。31.如申请专利范围第30项之监认系统,其中每个图素之相位可经选择性的自系使光传送最小的零相位而变动至系使光传送最大的相位255。32.如申请专利范围第2项之监认系统,其中体积相位遮罩系包含具有设置于介于该等结构以及覆盖于该等结构上之外部过滤器之间的保护层之薄片,且其中每个该等结构在大小上系不大于约六个微米且系具有大于1:1之高宽比。33.如申请专利范围第32项之监认系统,其中该相位体积遮罩系包含具有由含不超过约20%而变动之分子加权分布之分子的材质所构成之结构等之经复写遮罩。34.如申请专利范围第32项之监认系统,其中相位体积遮罩包含具有由含(a)多数个成对酯以及羧基族群,(b)多数个成对之长聚合物链结构等(c)每个具有饱和碳之多数个成对之碳链,(d)多数个成对链烯功能性族群,以及(e)多数个成对之苯甲基功能性族群,之材质所组成之结构等之经复写遮罩。35.如申请专利范围第34项之监认系统,其中该遮罩之结构等系由聚乙烯肉桂酸盐共聚物所组成。36.如申请专利范围第32项之监认系统,其中相位体积遮罩包含具有由紫外线光可硬化材质构成之结构等之经复写遮罩。37.如申请专利范围第36项之监认系统,其中相位体积遮罩包含由紫外光线可硬化环氧树脂所构成之结构等之一经复写遮罩。38.如申请专利范围第2项之监认系统,其中该结构等系以图样而建构,而每个结构以及图样两者系皆肉眼可视的。39.如申请专利范围第1项之监认系统,其中第一遮罩包含具有多数成对结构等之相位体积遮罩,每个该些结构系不大于六微米且每个系具有大于2:1之高宽比,而其中该相位体积遮罩系包含黏接接附于物件之标签。40.如申请专利范围第39项之监认系统,其中该物件包含一卡或挂条。41.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该相关器包含一光处理器以及藉由能量记录装置而与该光处理器相介面之电脑处理器。42.如申请专利范围第41项之监认系统,其中该光处理器西包含一光源以及傅立页透镜,其中输入以及参考系光置于光源以及傅立页透镜之间。43.如申请专利范围第42项之监认系统,其中能量记录装置具有多数个记录元件,每个该元件系不大于六微米,使可记录由输入以及参考中至少之一的次微米大小结构所产生之傅立页干扰图样。44.如申请专利范围第43项之监认系统,进一步包含一置于记录装置之记录元件以及傅立页透镜之间而光放置之放大透镜,以将傅立页干扰图样放大。45.如申请专利范围第42项之监认系统,其该输入以及参考系设置于不同平面。46.如申请专利范围第45项之监认系统,进一步包含解出机构,以将当参考信号以及输入信号藉由傅立页透镜而转换时所产生之位于傅立页干扰图样之二次项予以解出。47.如申请专利范围第1项之监认系统,其中相关器包含一光源、傅立页透镜、一能量记录装置、一连接至能量记录装置之影像捕捉装置、一连接至影像捕捉装置之处理器,而其中(1)该输入以及参考系光设置于介于光源以及传立页透镜之间,使得具有傅立页干扰图样之联合功率光谱于光源照射参考以及输入时而产生,以及(2)该处理器系建构为(i)非线性转换该干扰图样,(ii)反向傅立页转换该非线性转换干扰图样,以及(iii)由非线性转换、反向傅立页转换干扰图样而决定一相关波峰之产生。48.如申请专利范围第47项之监认系统,其中该处理器包含一数位信号处理器。49.如申请专利范围第48项之监认系统,其中数位信号处理器系为以多数个数位信号处理器所组成之数位信号处理引擎之部分。50.如申请专利范围第49项之监认系统,进一步包含一具有至少一处理器之电脑,其中该数位信号处理引擎系连接至该电脑。51.如申请专利范围第47项之监认系统,其中(1)于照射时该输入产生一输入信号,(2)于照射时该参考产生一参考信号,(3)该输入以及参考并不位于相同之平面以及(4)该处理器经组构而解出由于输入以及参考部位于相同平面而发生在干扰图样之二次项。52.如申请专利范围第47项之监认系统,其(1)于照射时该输入产生一输入信号,(2)于照射时该参考产生一参考信号,(3)该输入以及参考并不位于相对于彼此之尖锐角度,以及(4)该处理器经组构而将参考信号以及输入信号一般化而使相关器对于介于输入以及参考之间的角度系不变异的。53.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该相关器包含:一外壳,具有包括第一脚、中间脚、以及最后脚之一般性U形光通道;一光源,而与第一脚光相通;一对孔窗口,设置于第一脚之一端,而具有一个孔窗口,以接收该输入,以及另一孔窗口作为接收该参考,其中该等孔窗口系经分隔以将输入与该参考分隔一距离;一分光器,光置于光源以及孔窗口之间的第一脚;一对准透镜,光置于分光器以及光源之间的第一脚;一镜置于第二脚;一傅立页透镜光置于分光器以及镜之间的第二脚;以及一能量记录装置置于该最后脚。54.如申请专利范围第53项之监认系统,其中该相关器系为精简架构,使得其外壳具有大于约1.625英尺之厚度,一不大于约7英尺之宽度,以及不大约10英尺之长度。55.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该相关器包含:一外壳;一光源;一对孔窗口,具有一个孔窗口作为接收该输入,而另一孔窗口作为接收该参考,其中该孔窗口系经分隔设置,使得该输入以及该参考分隔一距离;一抛物柱面镜,光设置于光源以及孔窗口之间;一分光器,光置于抛物柱面镜以及孔窗口之间;一能量记录装置;一傅立页透镜,光置于孔窗口以及能量记录装置之间;以及其中该光源系由外壳承载,且系相位于抛物柱面镜之尖锐角度,使将光源设置于抛物柱面镜、分光器、傅立页透镜、孔窗口以及能量记录装置之内板。56.如申请专利范围第55项之监认系统,其中傅立页透镜系设置于介于分光器以及孔窗口之间,而于操作时来自于光源之光线系自输入以及输出而反射,使得该相关器系为反射模式相关器。57.如申请专利范围第56项之监认系统,进一步包含一光设置于分光器以及能量记录装置之间的镜。58.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该相关器包含:一光源,其产生照射输入以及参考之光束;一能量记录装置,光设置于1)光源以及2)参考以及该输入之间;一傅立页透镜,光设置于1)能量记录装置以及2)参考以及输入;一生物测定扫描器,系可操作而扫瞄个人之生物测定特征;其中该输入以及参考系分隔;以及其中1)输入以及参考之一系包含连接于生物测定扫描器之空间光模组器,以显示包含有生物测定扫描器所扫瞄之生物测定特征的相位图样,以及2)另一个输入以及参考,系包含一含有图样相位经编码于其中之相位体积遮罩。59.如申请专利范围第58项之监认系统,其中生物测定扫描器包含电连接至空间光线模组器之指印扫描器。60.如申请专利范围第58项之监认系统,其中空间光线模组包含该参考,以及相位体积遮罩包含该输入。61.如申请专利范围第58项之监认系统,进一步包含一光设置于1)光源以及2)参考以及该输入之间。62.如申请专利范围第61项之监认系统,其中该相关器包含一反射模式相关器。63.如申请专利范围第58项之监认系统,进一步包含:一处理器,操作连接至空间光线模组器,而提供具有可将经扫瞄之生物测定图样予以搅拌之随机相位图样之空间光线解码器以及其中该相位体积遮罩进一步包含一可将编码其中之生物测定图样相位予以搅拌之随机相位图样。64.如申请专利范围第63项之监认系统,其中随机相位图样以及生物测定图样系经旋转以将图案整合,使得生物测定图样由随机相位图样而予以搅拌,使得生物测定图样于检视该相位体积遮罩时系不可目视辨识。65.如申请专利范围第55项之监认系统,进一步包含一载有生物测定扫描器之端子以及载有相位体积遮罩之卡,其中该端子系具有作为接收卡之至少一部份的槽。66.如申请专利范围第1项之监认系统,进一步包含:一门;一处理器,经操作连接至相关器以决定该输入是否为监认;一电子门打开机制,经操作连接至该处理器,该处理器系1)假如该处理器决定该输入系监认,允许该门被打开,以及2)假如该处理器决定该输入系不为监认则不允许该门打开。67.如申请专利范围第66项之监认系统,其中电子门打开机制,包含一电子锁,该锁系1)假如该输入被决定为监认则开锁以及2)假如该输入系为非监认则锁住。68.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该相关器进一步包含:一光源,其照射该输入以及参考;一扫描器组件,其系导引该光之部分至该相关器之外侧位置;其中该输入系设置于相关器之外侧,使得该输入以及参考系设置于不同平面;以及其中该光之部分系导引至输入。69.如申请专利范围第68项之监认系统,其中该扫描器组件包含将光部份分光之分光器。70.如申请专利范围第69项之监认系统,其中该扫描器组件进一步包含设置于输入以及分光器之镜,以导引该光部份至该输入。71.如申请专利范围第1项之监认系统,其中该相关器包含照射输入以及参考之光源,电荷耦合装置照相机,设置于照相机以及输入以及参考之间的傅立页透镜,一处理器经操作连接至照相机以分析来自于含有傅立页干扰图样之参考以及输入两者之光线的联合功率光谱,以决定该输入是否为监认;以及其中该参考包含一系光连接于一处理器之空间光线模组器,该处理器系提供储存于可由该处理器所存取之相位图样之资料库的多数个相位图样之相位图样于该空间光线模组器。72.如申请专利范围第71项之监认系统,其中该处理器经操作而连接至该处理器,且该处理器系可操作连接于该空间光线模组器。73.一种监认系统,包含:一输入,由一物件承载;一参考,与该输入相关;以及,其中该输入以及该参考之至少之一,系包含一具有建构在图样中之每平方公分有至少约一亿个相位结构之相位体积遮罩,而每个相位结构在大小是系不大于约六微米,且具有至少2:1之高宽比;以及一相关器,其该输入与该参考相关以判定该输入是否为监认,该相关器系包含一照射输入以及参考之光源,使得表示编码于输入中之图样相位的输入信号以及表示编码在输入中之图样相位之参考信号被产生,一傅立页透镜,作为将输入信号以及参考信号予以傅立页转换以产生具有干扰图样之连接功率转换,一记录该干扰图样之能量记录装置,一电脑可藉由对于经记录之图样而非线性转换以及反向傅立页转换而分析经记录之干扰图样,以确定表示该输入是否为监认之相关斑纹是否出现。74.如申请专利范围第73项之监认系统,其中该图样包含一随机图样。75.如申请专利范围第74项之监认系统,其中该随机图样包含一随机图样。76.如申请专利范围第73项之监认系统,其中每个相位结构在大小上系不大于约一微米。77.一种将输入与参考相监认之方法,包含:a)对于一输入以及一参考提供包含具有多数个成对的相位结构之相位体积遮罩的该输入以及该参考,每个该结构在大小上系不大于约六微米且该高宽比系至少为2:1,一具有光源之相关器,一傅立页透镜,一能量记录装置,一可操作连接至该记录之电脑;b)照射该输入以及参考,以得到来自于输入之输入信号以及来自于参考之参考信号;c)对于该输入信号以及该参考信号傅立页转换;d)记录该经傅立页转换之输入信号以及该参考信号而作为联合功率光谱影像;e)将经记录之联合功率光谱影像予以非线性转换;f)将经记录之联合功率光谱影像予以反向傅立页转换;以及g)决定是否出现一相关波峰。78.如申请专利范围第77项之监认方法,之监认方法,其中该输入以及参考系位于不同之平面,而该步骤进一步包含于将步骤f)所反向傅立页转换之后的经记录影像,而解出位于发生在该记录影像中之二次项。79.如申请专利范围第77项之监认方法,其中该输入系相对于该参考而正确的定角度,并包含以下额外步骤1)执行介于输入信号以及参考信号之间的圆形相关,以及2)将该输入信号以及参考信号一般化,而使得该输入信号以及该参考信号对于角度旋转为不受变异。80.如申请专利范围第77项之监认方法,包含以下额外步骤:对于该联合功率光谱予以非线性初始,以决定该输入是否系监认照射无关。图式简单说明:图1系作为将可以是表面浮雕相位遮罩或相位体积遮罩之输入,与亦可以是相位体积遮罩之参考値予以相关化之来源相关器之结构图,以决定该结果经傅立页转换之联合功率光谱,具有或缺少在光谱上之尖点状之相关点系为非线性以及反向傅立页转换;图2系为本发明之体积相位遮罩之简化随机相位图样;图3系为了增加清楚度,而以夸张之方式,而展示其小、高的高宽比相位结构之遮罩之剖面图;图4系最好系编码或复写于遮罩之中之较佳放大随机图样之图;图5系展示作为记录最好系最终使用作为形成遮罩或复写其他遮罩之记录媒体中之随机图样之图样之较佳记录架构;图6系展示将记录媒体应用于一基底之记录处理之初始步骤;图7系展示记录位在记录媒体中之图样之记录步骤;图8系展示冲洗在记录媒体中之图样;图9系展示在移除曝光之记录媒体之后所产生之相位结构;图10系展示制造副控器之复制品;图11系展示将副控器定位于复写材质之区块上;图12系展示将压力施加至该副控器,以将其复制品之图样印置于复写材质上;图13系展示在移除副控器之后,留在该复写材质之痕迹;图14系展示将保护材质以及过滤器施加于复写材质之表面上;图15系展示较佳复写材质之分子;图16系展示使用副控器于黏着复写处理;图17系展示施加压力之步骤,以加速将接着剂施加于介于副控器之复制品之结构间的动中;图18系展示接着剂之硬化;图19系展示在适当硬化后,将接着剂剥除;图20系展示由于硬化接着之遮罩之侧视图;图21系展示包含搅和遮罩之随机图样;图22系展示系为生物测定指纹图样之预设图样;图23系为以预设图样旋转之随机图样之图样之简化表示;图24系展示一虹膜图样;图25系展示一角膜图样之例子;图26系非为生物测定图样之预设图样;图27系展示作为将以搅拌器遮罩形式之随机图样,而对于以资讯遮罩图样之预设图样予以旋转之体积相位遮罩予以记录之记录设备;图28系展示在图27之经旋转相位遮罩记录设备中之资讯遮罩以及搅拌器遮罩之定位;图29系展示作为记录相位旋转遮罩之第二较佳记录设备;图30系一相关器之结构图;图31系展示图30之相关器之电脑之较佳处理器之额外构件;图32系为图30以及图31之相关器之光以及处理结构;图33系为另一相关器之结构图;图34系为包含其输入或参考値之空间光线模组之相关器之立体图;图35系为精简相关器之第一较佳实施例之立体图;图36系为精简相关器之顶视图;图37系为精简相关器之射线轨迹;图38系为晶粒长列之第二较佳实施例之顶视图;图39系为晶粒长列之第三较佳实施例之立体图;图40A,40B,40C系展示使用扫瞄自个人之生物测定图样而作为输入或参考値之相关器;图41A以及41B系展示控制对于位置存取之处理器以及相关器;图42A以及42B系展示输入以及参考値系并非位于相同平面之相关器;图43以及44系为两个"平滑"函数之图形;图45系为其自动相关函数之图形;图46系为其跨(cross)相关函数之图形;图47以及48系为两"似杂讯"函数之图形;图49系为其自动相关函数之图形;图50系为其跨相关函数之图形;图51系为展示角度空间之结构;图52系为展示傅立页空间之结构;图53系为当输入以及参考値相同时,导引于相关之尖点状相关点之立体图;图54系为当输入以及参考値不相同时具有导引于相关之远低的大小的尖点之立体图;图55系为自动相关函数之图形;图56系为表示第二较佳接着式复写处理之初始制备步骤;图57系展示在接着剂置于基底之制备部份之后,将相位遮罩图样制造器施加于接着剂中;图58系图57所示之建构之侧视图;以及图59系为当完成复写程序时所生遮罩之顶视图。 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