| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체소자 제조용 공정튜브에 관한 것이다. 본 발명에 따른 공정튜브는, 돔 형상을 갖는 외부튜브와, 위쪽이 개방되고 상기 외부튜브 내에 설치된 내부튜브와, 다수개의 웨이퍼가 안착되는 복수개의 슬롯을 갖으며 상기 내부튜브 내로 로딩/언로딩되는 보트와, 반응가스를 공급하는 노즐과, 복수개로 이루어지거나 혹은 다수개의 배기구를 갖는 배기라인과 연결되는 진공배기구로 구성된다. 따라서, 본 발명에 의하면 외부로부터 공급되는 반응가스를 이용하여 웨이퍼 위에 소정두께의 특정막을 전체적으로 균일하게 형성할 수 있는 효과가 있다.</p> |
