| 发明名称 | 具有低折射率层的抗反射膜 | ||
| 摘要 | 一种具有耐笔划性的抗反射膜，它具有由含有作为主要组分的二氧化硅和交联剂的原料组合物形成的低折射率层。相对于二氧化硅和交联剂总量，所述原料组合物含有1—10wt％的聚合引发剂和1—5wt％的聚硅氧烷树脂。 | ||
| 申请公布号 | CN100334469C | 申请公布日期 | 2007.08.29 |
| 申请号 | CN03812776.8 | 申请日期 | 2003.07.04 |
| 申请人 | 日本油脂株式会社 | 发明人 | 古冈健介;森本佳宽 |
| 分类号 | G02B1/10(2006.01);G06F3/033(2006.01);B32B27/00(2006.01);C08J7/04(2006.01) | 主分类号 | G02B1/10(2006.01) |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
| 主权项 | 1.一种用于抗反射膜的低折射率层，该低折射率层由含有二氧化硅、交联剂、聚合引发剂和聚硅氧烷树脂的原料组合物形成，原料组合物的主要组分为二氧化硅和交联剂，其中，相对于二氧化硅和交联剂的总量，聚合引发剂为1-10wt％，聚硅氧烷为1-5wt％。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||