| 主权项 |
1.一种电浆处理容器内部材,其特征为:用Y2O3溶射皮膜来被覆基材的表面。2.如申请专利范围第1项所述的电浆处理容器内部材,其中Y2O3溶射皮膜的气孔率是0.5-10%,膜厚是在50-2000m之范围。3.如申请专利范围第1项或第2项所述的电浆处理容器内部材,其中更包括有:当作上层皮膜的该Y2O3溶射皮膜的下方,有当作下层皮膜的金属皮膜。4.如申请专利范围第3项所述的电浆处理容器内部材,其中更包括有:当作下层皮膜被覆在基材表面的金属皮膜,和当作上层皮膜的Y2O3溶射皮膜之间,有一中间层。5.如申请专利范围第3项所述的电浆处理容器内部材,其中下层皮膜的金属皮膜,可以用从Ni及Ni合金,W及W合金,Mo及Mo合金,Ti及Ti合金所组成之族群中,选其中1种以上的金属、合金形成50-500m的皮膜。6.如申请专利范围第4项所述的电浆处理容器内部材,其中下层皮膜的金属皮膜,可以用从Ni及Ni合金,W及W合金,Mo及Mo合金,Ti及Ti合金所组成之族群中,选其中1种以上的金属、合金形成50-500m的皮膜。7.如申请专利范围第4项所述的电浆处理容器内部材,其中中间层是由Al2O3皮膜、Al2O3和Y2O3的混合皮膜之其一所构成。8.如申请专利范围第7项所述的电浆处理容器内部材,其中具有倾斜浓度是由Al2O3和Y2O3的混合皮膜所构成的中间层,靠近下层皮膜的地方,Al2O3浓度较高;而另外一方面,靠近上层皮膜的地方,Y2O3浓度较高。9.一种电浆处理容器内部材的制造方法,其特征为:用溶射法来被覆Y2O3,以形成Y2O3溶射皮膜。10.一种电浆处理容器内部材的制造方法,其形成的复合层特征为:CVD法、PVD法或溶射法等其中之任何一种表面处理法皆可适用于基材表面上。当作下层皮膜的金属皮膜,可以用从Ni、W、Mo及Ti及该等金属之合金所组成之族群中,选其中1种以上的金属、合金来形成皮膜;之后在该下层皮膜的上方,被覆当作上层皮膜的Y2O3溶射皮膜,因而共同形成复合层皮膜。11.一种电浆处理容器内部材的制造方法,其特征为:CVD法、PVD法或溶射法等其中之任何一种表面处理法皆可适用于基材表面上。当作下层皮膜的金属皮膜,可以用从Ni、W、Mo及Ti及该等金属之合金所组成之族群中,选其中1种以上的金属、合金来形成皮膜;接着在下层皮膜的上方形成的中间层,该中间层是由Al2O3.Al2O3和Y2O3的混合皮膜之其一所构成;最后在该中间层的上方,被覆当作最上层的Y2O3皮膜。 |
