| 主权项 |
1.一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中至少包含:一定位框架,其可置于一平台式扫描器之一扫描平台上方;一定位框,设于该定位框架内,该定位框至少包含:一凹槽,其面积大于一穿透稿面积,系用于容纳该穿透稿于其中;该凹槽更进一步至少包含一第一开口,其面积小于一穿透稿面积;及一上盖,该上盖之第一侧边与该凹槽之第一侧边成线接触,可使该上盖能开合于该凹槽中;该上盖更进一步包含一第二开口,其面积小于一穿透稿面积。2.如申请专利范围第1项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之定位框架,其面积与该平台式扫描器之该扫描平台的面积相等。3.如申请专利范围第1项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之定位框,至少包含:一卡锁装置,设于该凹槽之第二侧边与该上盖之第二侧边处,该上盖之第二侧边与该上盖之第一侧边互为相对边,该凹槽之第二侧边与该凹槽之第一侧边亦互为相对边,该卡锁装置系当该上盖闭合于该凹槽时,将该上盖固定于该凹槽中。4.如申请专利范围第3项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之卡锁装置,至少包含:一卡勾,设于该上盖之第二侧边,该上盖之第二侧边与该上盖之第一侧边互为相对边,且该卡勾延伸方向与该上盖平面相互垂直;一卡勾槽,设于该凹槽之第二侧边,且当该上盖闭合于该凹槽中时,该卡勾槽位置相等于该卡勾位置,且能使该卡勾固定于该卡勾槽中。5.如申请专利范围第4项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之卡锁装置,至少包含:一缓冲缝,设于该上盖之第二侧边处,系用于提供该卡勾具有一平行于该上盖平面的弹力。6.如申请专利范围第1项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之上盖,其面积小于该凹槽面积,其厚度小于该凹槽深度,使该上盖闭合于该凹槽中时,该上盖之表面与该定位框架之表面切齐。7.如申请专利范围第1项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之第一开口与第二开口的面积相等;且当该上盖闭合于该凹槽中时,该第一开口的位置相等于该第二开口的位置。8.如申请专利范围第1项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之凹槽,至少包含:一开启槽,设于该凹槽之第二侧边,该凹槽之第二侧边与该凹槽之第一侧边互为相对边,系用于让使用者方便将上盖开启。9.如申请专利范围第1项所述之一应用于平台式扫描器之穿透稿定位装置,其中上述之定位框架与定位框,可为一体成型制成之一射出成型件。图式简单说明:第一图 为习知平台式扫描器之扫描方式示意图。第二图 为习知平台式扫描器具穿透稿定位框之扫描方式示意图。第三A图 为本创作之穿透稿定位装置之上盖与凹槽之组合示意图。第三B图 为本创作之穿透稿定位装置之凸轴放大示意图。第三C图 为本创作之穿透稿定位装置之凸轴孔放大示意图。第四A图 为本创作之穿透稿定位装置之卡勾与卡沟槽之位置关系示意图。第四B图 为本创作之穿透稿定位装置之缓冲缝放大示意图。第五A图 为本创作之穿透稿定位装置之上盖开启时示意图。第五B图 为本创作之穿透稿定位装置之上盖开启时并置入穿透稿示意图。第五C图 为本创作之穿透稿定位装置之上盖闭合后固定穿透稿示意图。 |
