| 发明名称 |
FILM DEPOSITION USING SPATIAL ATOMIC LAYER DEPOSITION OR PULSED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION |
| 摘要 |
복수의 섹션들이 가스 커튼들에 의해 분리되어, 각각의 섹션이 독립적으로 프로세스 조건을 갖는 원형의 배치 프로세싱 챔버를 사용하여, 필름을 증착하기 위한 원자 층 증착 방법들이 제공된다. |
| 申请公布号 |
KR20160105497(A) |
申请公布日期 |
2016.09.06 |
| 申请号 |
KR20167020988 |
申请日期 |
2014.12.31 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
LEI YU;GANDIKOTA SRINIVAS;GANGULI SESHADRI;ZHENG BO;JAKKARAJU RAJKUMAR;SALINAS MARTIN JEFF;SCHMIEGE BENJAMIN |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/285;H01L21/311;H01L21/3205;H01L21/3213 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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