发明名称 淀积高质量微晶半导体材料的方法
摘要 微晶半导体材料层的等离子体淀积方法,通过用电磁能激发包含半导体材料前体和稀释气体的工艺气体,由此产生等离子体而进行该方法。将微晶半导体材料层等离子体淀积到衬底上。工艺气体中的稀释物浓度作为已淀积的微晶半导体材料层厚度的函数变化。还公开了用这种工艺制备N-I-P型光伏器件的用途。
申请公布号 CN100470726C 申请公布日期 2009.03.18
申请号 CN200580007121.8 申请日期 2005.01.24
申请人 联合太阳能系统公司 发明人 S·古哈;C·C·杨;阎宝杰
分类号 H01L21/20(2006.01)I 主分类号 H01L21/20(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 蔡胜有
主权项 1. 微晶半导体材料层的等离子体淀积方法,其中用电磁能将包含半导体材料前体和稀释物的工艺气体激发,由此产生等离子体,该等离子体向衬底上淀积所述微晶半导体材料层,其中的改进包括:根据已淀积微晶半导体材料层的厚度改变所述工艺气体中稀释物的浓度。
地址 美国密执安
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