衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备

摘要

本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备。其中，在与液浸曝光兼容的曝光装置中紧接在用于调整图案图像的曝光位置的对准处理之前或之后，将用于对准处理的虚设衬底从曝光装置传输到衬底处理设备。在衬底处理设备中，清洗处理装置清洗并干燥接收到的虚设衬底。将已清洗的虚设衬底从衬底处理设备传输回曝光装置。在曝光装置中使用清洁的虚设衬底执行对准处理，减少了曝光装置中机构如衬底台的污染。当虚设衬底具有斥水性时，在衬底处理设备中进行清洗使虚设衬底的斥水性恢复。

主权项

1. 一种衬底处理方法，所述方法包括将在衬底处理设备中已进行抗蚀剂涂布处理的衬底传输到曝光装置，并在所述曝光装置中对所述衬底进行图案曝光，然后将所述衬底传输回所述衬底处理设备，并在所述衬底处理设备中对所述衬底进行显影处理，所述方法包括以下步骤：a)在所述衬底处理设备中对衬底进行抗蚀剂涂布处理；b)将所述衬底从所述衬底处理设备传输到所述曝光装置；c)在所述曝光装置中对所述衬底进行图案图像曝光；d)将所述衬底从所述曝光装置传输到所述衬底处理设备；e)在所述衬底处理设备中对所述衬底进行显影处理；f)利用虚设衬底在所述衬底上调整将被曝光的图案图像的曝光位置；g)将所述虚设衬底从所述曝光装置传输到所述衬底处理设备，其中在所述曝光装置中调整所述图案图像的所述曝光位置的期间使用所述虚设衬底；h)在所述衬底处理设备中清洗所述虚设衬底；以及i)将已进行清洗的所述虚设衬底从所述衬底处理设备传输回所述曝光装置。