发明名称 ELECTROSTATIC DEFLECTOR FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS
摘要 <p>높은 정밀도와 편향 위치의 감소된 변위를 갖도록 전자빔을 편향시킬 수 있는 전정 편향기를 구비하는 전자빔 조사 장치가 개시된다. 상기 정전 편향기는, 절연 재료로 이루어진 실린더 지지부재와, 금속막으로 도포된 상기 지지부재의 표면의 적어도 일부분 갖는, 상기 지지부재의 내부에 서로 떨어져서 고정되어 있는 다수의 전극을 포함한다. 상기 지지부재는, 전극이 고정되는, 전극 부분에 해당하는 웨지 형상(wedge-shaped)으로 된 다수의 고정홀을 각각 구비하되, 상기 고정홀은 지지부재의 내부 원주면에서보다 외부 원주면에서 더 큰 직경을 갖는, 상기 고정홀을 갖는다. 상기 전극은, 용융 연결 금속이 지지부재 상에 배열된 전극과 함께 고정홀 내로 주입되고 연결 금속은 전극의 금속 피막으로 밀접하게 접촉하여 경화되는 방식으로 상기 지지부재 상에 고정된다. 지지부재에 고정된 전극이 그렇게 형성되어서 지지부재의 내벽이 지지부재의 실린더축으로부터 보이지 않는다. 전극은 지지부재에 고정된 이후에 전극의 내벽면에 증기 증착(vapor deposition)에 의하여 구성된 금속 박막을 구비한다.</p>
申请公布号 KR100350308(B1) 申请公布日期 2002.08.24
申请号 KR19990047929 申请日期 1999.11.01
申请人 주식회사 아도반테스토 发明人 오오아에요시히사;타나카히토시;하라구치타케시;아시와라카추토;아베토모히코;카토료우지
分类号 H01L21/26;H01J37/147 主分类号 H01L21/26
代理机构 代理人
主权项
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