| 发明名称 |
Silicon dioxide deposition by plasma activated evaporation process |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0887433(B1) |
申请公布日期 |
2000.08.30 |
| 申请号 |
EP19980305079 |
申请日期 |
1998.06.26 |
| 申请人 |
GENERAL ELECTRIC COMPANY |
发明人 |
IACOVANGELO, CHARLES DOMINIC |
| 分类号 |
C23C14/06;C23C14/10;C23C14/32;C23C16/42;C23C16/50;H01L21/31;(IPC1-7):C23C14/08;C23C14/20 |
主分类号 |
C23C14/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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