| 发明名称 | 抗辐射导电光学防护膜 | ||
| 摘要 | 抗辐射导电光学防护膜，它涉及一种在光学器件表面使用的防护膜。现有防护膜在长期接受空间辐射环境作用后，光谱透过率明显下降，且当航天器遇磁层亚暴环境时，表面被充电，当放电脉冲耦合进入电子系统时造成航天器故障。本发明的各成分按重量份数计：无水乙醇1～4份，乙酰丙酮2～6份，甲酰胺0.02～1份，盐酸0.01～3份，In(NO<SUB>3</SUB>)<SUB>3</SUB>0.0001～0.001份，SnCl<SUB>4</SUB>0.00001～0.0004份，Ce(NO<SUB>3</SUB>)<SUB>3</SUB>0.0002～0.004份，LaCl<SUB>3</SUB>0.0003～0.005份。本发明利用Ce、La、Sn、In元素特性制备的多元素氧化物复合膜，具有高的导电性能、抗辐射性能和光学性能稳定性，在可见及近红外区的光谱透过率达到92％以上。 | ||
| 申请公布号 | CN1598619A | 申请公布日期 | 2005.03.23 |
| 申请号 | CN200410043737.8 | 申请日期 | 2004.07.22 |
| 申请人 | 哈尔滨工业大学 | 发明人 | 张丽新;何世禹;杨德庄;魏强;赵丹 |
| 分类号 | G02B1/10;G02B1/00 | 主分类号 | G02B1/10 |
| 代理机构 | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 | 代理人 | 张伟 |
| 主权项 | 1.一种抗辐射导电光学防护膜，它的原料成分包括无水乙醇、乙酰丙酮、甲酰胺和盐酸，其特征在于它的成分中还包括In(NO3)3、SnCl4、Ce(NO3)3和LaCl3，以上各成分按重量份数计：无水乙醇1～4份，乙酰丙酮2～6份，甲酰胺0.02～1份，盐酸0.01～3份，In(NO3)30.0001～0.001份，SnCl40.00001～0.0004份，Ce(NO3)30.0002～0.004份，LaCl30.0003～0.005份。 | ||
| 地址 | 150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 | ||