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发明名称 Verfahren zur Entfernung von nichtionogenen Siliciumdioxidbestandteilen aus Wasser
摘要
申请公布号 DE4233270(C2) 申请公布日期 1998.03.26
申请号 DE19924233270 申请日期 1992.10.02
申请人 MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO, JP;JAPAN ORGANO CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 BAN, COZY, ITAMI, HYOGO, JP;YANAGI, MOTONORI, ITAMI, HYOGO, JP;FUKUMOTO, TAKAAKI, ITAMI, HYOGO, JP;MANABE, TOSHIKI, TODA, SAITAMA, JP;YANOME, HIROSHI, TODA, SAITAMA, JP;KAWADA, KAZUHIKO, TODA, SAITAMA, JP
分类号 C02F1/20;C02F1/32;C02F1/42;C02F1/78;C02F9/00;(IPC1-7):C02F1/42 主分类号 C02F1/20
代理机构 代理人
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