首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
ノンエアゾール型泡状日焼け止め化粧料
摘要
【課題】紫外線吸収剤内包シリコーン誘導体マイクロカプセルを含有した、使用感及び安定性に優れたノンエアゾール型泡状日焼け止め化粧料を提供する。【解決手段】下記の(A)〜(C)を含有することを特徴とするノンエアゾール型泡状日焼け止め化粧料。(A)紫外線吸収剤内包シリコーン誘導体マイクロカプセル(B)両性界面活性剤(C)アニオン界面活性剤【選択図】なし
申请公布号
JP5985729(B1)
申请公布日期
2016.09.06
申请号
JP20150190017
申请日期
2015.09.28
申请人
株式会社ノエビア
发明人
丹田 一利
分类号
A61K8/898;A61K8/02;A61K8/11;A61K8/35;A61K8/37;A61K8/44;A61Q17/04
主分类号
A61K8/898
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
PRINTED CIRCUIT BOARD AND IMAGE-RECORDING DEVICE PROVIDED WITH SAME
SEMICONDUCTOR POLYMER AND DEVICE USING SAME
METHOD OF MANUFACTURING CERAMIC GREEN SHEET AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT USING CERAMIC GREEN SHEET
ORIGINAL READER
LIGHT TRANSMITTING PLATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, IMAGE INPUT APPARATUS USING LIGHT TRANSMITTING PLATE
INTEGRATED CIRCUIT DEVICE HAVING INPUT/OUTPUT ELECTROSTATIC DISCHARGE PROTECTION CELL COMPRISING ELECTROSTATIC PROTECTION ELEMENT AND POWER CLAMP
ELECTRICAL CONNECTION AND COMPONENT ASSEMBLY FOR CONSTITUTING HARD DISC DRIVE
METHOD FOR FORMING SILICON THIN FILM
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
SUBSTRATE-TREATING DEVICE
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
DRY ETCHING METHOD OF INTERLAYER INSULATING FILM
DEVICE AND METHOD FOR VAPOR PHASE GROWTH
METALLIZATION FILM CAPACITOR
SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
EXPOSURE SYSTEM AND ITS ADJUSTING METHOD
DISPERSING DEVICE FOR VAPORIZER, VAPORIZER FOR MOCVD USING THE SAME, AND METHOD OF VAPORIZING CARRIER GAS
METALLIZED FILM CAPACITOR
PORTABLE DEVICE
METHOD OF REGENERATING RELEASABLE WAFER AND REGENERATED WAFER