| 发明名称 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UNE COUCHE ISOLANTE ENTERREE DANS UN SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR, PAR IMPLANTATION IONIQUE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2563377(B1) |
申请公布日期 |
1987.01.23 |
| 申请号 |
FR19840006232 |
申请日期 |
1984.04.19 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
MICHEL BRUEL ET JEAN DU PORT DE PONCHARRA;PONCHARRA JEAN DU PORT DE |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/265;H01L21/31;H01L21/76;H01L21/762;H01L27/12;H01L29/78;H01L29/786;(IPC1-7):H01L21/223;H01L21/26 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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