发明名称 DEVICE FOR PROCESSING WORKPIECES IN LOW PRESSURED PLASMA
摘要 <p>Die bekannten Einrichtungen zur Plasmabehandlung haben den Nachteil, dass die Stromdichte und damit die Ätzrate nicht beliebig zu steigern ist, um die Produktivität zu erhöhen. Außerdem arbeiten diese mit einem hohen Gasdruck. Die Einrichtungen, die mit hohem Gasdruck arbeiten, sind nicht geeignet, um ferromagnetische oder dicke Werkstücke zu behandeln. D.h. das Anwendungsgebiet ist begrenzt. Erfindungsgemäß besteht die Einrichtung aus einer magnetfelderzeugenden Einrichtung, das Werkstück ist als Elektrode einer Niederdruckentladung geschaltet, die Gegenelektrode ist außerhalb des Magnetfeldes angeordnet, an das Werkstück und die Gegenelektrode wird ein gepulster Strom angelegt. Die Einrichtung dient der Plasmabehandlung beliebiger Werkstücke bezüglich Material, Form und Materialdicke. Es ist eine hohe Abtragerate zu erzielen, bei niedrigem Gasdruck und hoher Produktivität.</p>
申请公布号 WO1999028520(A2) 申请公布日期 1999.06.10
申请号 DE1998003514 申请日期 1998.11.24
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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