发明名称 |
磁随机存取存储器中改进性能的最佳写入导体布局 |
摘要 |
公开一种改进MRAM性能的最佳写入导体布局结构。用于磁存储单元的写入导体布局结构10包括第一方向V上具有第一层宽度W<SUB>D1</SUB>和第二方向H上具有第二层宽度W<SUB>D2</SUB>的数据存储层20。数据存储层20放置于在第一方向V上具有第一宽度W<SUB>C1</SUB>的第一导体30和在第二方向H上具有第二宽度W<SUB>C2</SUB>的第二导体32。第一和第二导体分别以第一和第二方向穿过数据存储层20。W<SUB>C1</SUB>小于W<SUB>D1</SUB>,以使第一层宽度W<SUB>D1</SUB>覆盖整个第一宽度W<SUB>C1</SUB>。W<SUB>C2</SUB>小于W<SUB>D2</SUB>,以使第二层宽度W<SUB>D2</SUB>覆盖整个第二宽度W<SUB>C2</SUB>。第一和第二导体的窄宽度消除导体与数据存储层20间的不对准现象,减少了第一和第二导体上的电流所产生的写入磁场的漏泄,并可用较小的电流产生写入磁场,从而降低存储单元中的功耗。 |
申请公布号 |
CN1172312C |
申请公布日期 |
2004.10.20 |
申请号 |
CN01123065.7 |
申请日期 |
2001.07.20 |
申请人 |
惠普公司 |
发明人 |
M·巴塔查里亚;T·安东尼 |
分类号 |
G11C11/02;G11C11/15;G11C7/00 |
主分类号 |
G11C11/02 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
吴增勇;王忠忠 |
主权项 |
1.一种用于磁存储单元的写入导体布局结构(10),它包括:具有第一宽度(WC1)的第一导体(30);具有第二宽度(WC2)的第二导体(32);以及数据存储层(20),它设置在所述第一和第二导体(30,32)之间,并具有第一方向(V)上的第一层宽度(WD1)和第二方向(H)上的第二层宽度(WD2),所述第一和第二导体(30,32)分别以所述第一和第二方向(V,H)穿过所述数据存储层(20),所述第一宽度(WC1)预选为小于所述第一层宽度(WD1),所述第二宽度(WC2)预选为小于所述第二层宽度(WD2),其中,所述第一宽度(WC1)相对所述第一层宽度(WD1)放置,使所述第一层宽度(WD1)覆盖整个所述第一宽度(WC1),以及所述第二宽度(WC2)相对所述第二层宽度(WD2)放置,使所述第二层宽度(WD2)覆盖整个所述第二宽度(WC2)。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |