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发明名称
氧化铝基板及其制法
摘要
本发明系有关于一种氧化铝基板,其包括一氧化铝层,系具有复数第一开口区且该复数第一开口区贯穿该氧化铝层;以及一第一线路层,系配置并嵌入该氧化铝层之该复数第一开口区中;其中,该第一线路层系齐平于该氧化铝层相对两表面。本发明亦提供上述氧化铝基板之制法。
申请公布号
TW200926377
申请公布日期
2009.06.16
申请号
TW096146075
申请日期
2007.12.04
申请人
全懋精密科技股份有限公司
发明人
史朝文
分类号
H01L23/492(2006.01);H01L21/60(2006.01)
主分类号
H01L23/492(2006.01)
代理机构
代理人
吴冠赐;杨庆隆;林志鸿
主权项
地址
新竹市东区新竹科学工业园区力行路6号
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