| 主权项 |
1.一种pH7-13之液体磨磋式清洁剂组成物,彼包含:a)0.1-20%wt一或多个可形成悬浮系统之界面活性剂,b)2-80%wt一或多个经悬浮之磨磋剂,c)0.5-10%wt C2-C6烷醇胺,以及,d)0.25-10%wt烃潜溶剂。2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该烷醇胺系选自:2-胺基-2-甲基-1-丙醇、单-,二-及三-乙醇胺、单-,二-及三-异丙醇胺、二甲基-,二乙基-或二丁基-乙醇胺,以及彼等之混合物。3.如申请专利范围第1项之组成物,其中该潜溶剂系选自:C10H16烯,C10-C16直链链烷,及彼等之混合物。4.如申请专利范围第1项之组成物,其中该磨磋剂系选自:碳酸钙,碳酸镁,沸石,氧化铝,水合氧化铝,长石,滑石,二氧化矽,及彼等之混合物。5.如申请专利范围第1项之组成物,其中该烷醇胺对该烃潜溶剂之比系落在3:1-1:3范围内。6.如申请专利范围第1项之组成物,其中该磨磋剂之量系20-40wt%,相对于产物量。7.如申请专利范围第1项之组成物,彼藉由Stokes Law所测量之200℃时黏度在切削速率为310-5sec-1下系至少5000Pas,同时藉由使用旋转黏度计测量之200℃时黏度在切削速率为21sec-1下系不超过10Pas。8.如申请专利范围第1项之组成物,彼具有pH在9.5至12.5。9.如申请专利范围第1项之组成物,彼包含:a)1-5%wt硷金属碳酸盐及/或碳酸氢盐,b)1-5%wt烷基苯磺酸盐,c)0-1%wt脂肪酸,d)1-3%wt羟乙基化醇非离子性界面活性剂,e)0.5-2.0wt%选自:2-胺基-2-甲基-1-丙醇,单-,二-及三-乙醇胺,单-,二-及三-异丙醇胺,二甲基-,二乙基-或二丁基-乙醇胺,以及彼等之混合物的烷醇胺,f)0.5-2.0%wt选自:C10H16烯,C10-C16直链链烷,及彼等之混合物的潜溶剂,g)20-40%选自:碳酸钙,碳酸镁,沸石,氧化铝,水合氧化铝,长石,滑石,二氧化矽,及彼等之混合物的磨磋剂,以及h)0.1-2%wt不同于烯之香料组份,而其余组份则包含较不重要组份及水。 |
