首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 ION IMPLANTATION METHOD OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURE PROCESS
摘要
申请公布号 KR0166218(B1) 申请公布日期 1999.02.01
申请号 KR19950056598 申请日期 1995.12.26
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 OK, KYUNG-HA;JOO, YONG-BYUNG;SONG, WOO-CHUL;CHO, SHIN-HYUN
分类号 H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com