| 发明名称 |
METHOD OF CLEANING HYDROGEN PLASMA DOWNSTREAM APPARATUS AND METHOD OF MAKING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING SUCH APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR0159179(B1) |
申请公布日期 |
1999.02.01 |
| 申请号 |
KR19950011567 |
申请日期 |
1995.05.11 |
| 申请人 |
FUJITSU LIMITED |
发明人 |
JUN, GIKUCHI;SUJO, HUJIMOORA |
| 分类号 |
H01L21/302;B08B7/00;H01L21/304;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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