发明名称 X射线成像仪
摘要 一种为获得X射线透视图像或类似的图像使用二维射线传感器的仪器。在生产性射线成像之前用小剂量进行监控射线成像。生产性射线成像的射线成像条件,特别是射线发射周期或射线发生器的管电流是基于在监控射线成像时从二维射线传感器上感兴趣区域收集的电荷量与生产性射线成像时在感兴趣区域上要求的电荷量之比率计算的。为了获得高质量的图像,生产性射线成像将依据计算结果进行操作。
申请公布号 CN1207557C 申请公布日期 2005.06.22
申请号 CN99106101.2 申请日期 1999.04.26
申请人 株式会社岛津制作所;夏普株式会社 发明人 及川四郎;足立晋;竹本隆之;山根康邦
分类号 G01N23/04;H05G1/44 主分类号 G01N23/04
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱进桂
主权项 1.一种使用二维射线传感器的射线成像仪器,其中包括:用于照射试件的射线发生器;所述二维射线传感器,其具有为了变换通过所述试件发射出的射线成为电荷信号以二维排列的检测元件,和分别连接到检测元件的开关;连续地逐列激励连接到二维射线传感器上的所述检测元件上的开关的门激励电路;将从二维射线传感器数据线上输出电荷加变换成电压并放大和数字化的信号阅读电路;控制所述门激励电路和所述信号阅读电路的控制电路;顺序控制器,其控制所述射线发生器的射线发生顺序,用各自的射线成像条件来实现监控射线成像和后续的生产射线成像;射线成像条件计算单元,其用于计算生产性射线成像的射线成像条件和至少对顺序控制器应用此射线成像条件进行生产性射线成像,而其计算是基于监控射线成像时通过信号阅读电路从二维射线传感器收集到的电荷量与生产射线成像时所要求的电荷量之比;其中所述射线成像条件计算单元将出现在感兴趣区域内的所述检测元件中具有最大值的电荷作为所述收集的电荷量考虑进行计算,所述检测元件的电荷包含在通过监控射线成像获得的二维射线传感器检测元件的电荷之中,并将在所述二维射线传感器具有线性输入/输出特性范围的最大电荷作为所要求的电荷量考虑,而且所述射线成像条件计算单元基于所述收集的电荷量与所述要求的电荷量之比计算所述照射周期。
地址 日本京都市