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发明名称 METHOD FOR FABRICATING INTERLAYER DIELECTRIC IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR20070044933(A) 申请公布日期 2007.05.02
申请号 KR20050101261 申请日期 2005.10.26
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 RHO, IL CHEOL;KIM, CHOON HWAN
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
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