| 发明名称 | 磁电阻元件 | ||
| 摘要 | 一种磁电阻元件，其通过在磁电阻效应膜的厚度方向上给出读出电流而检测磁电阻的改变量，该磁电阻效应膜至少包括一个底层、一个自由层、一个非磁性层、一个被固定层、一个固定层和一个保护层，该磁电阻元件包括粒状结构层，该粒状结构层包括导电颗粒和薄膜形式的绝缘基质材料，该绝缘基质材料包含处于分散状态的所述导电颗粒并且其厚度小于所述导电颗粒的颗粒直径，该粒状结构层邻接于所述自由层和所述被固定层中的任何一个层。 | ||
| 申请公布号 | CN101222018A | 申请公布日期 | 2008.07.16 |
| 申请号 | CN200710199180.0 | 申请日期 | 2002.11.08 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 長坂惠一;濑山喜彦;菅原贵彦;清水豊;田中厚志 |
| 分类号 | H01L43/08(2006.01);H01F10/32(2006.01);G01R33/09(2006.01);G11B5/39(2006.01) | 主分类号 | H01L43/08(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 杜娟 |
| 主权项 | 1.一种磁电阻元件，其通过在磁电阻效应膜的厚度方向上给出读出电流而检测磁电阻的改变量，该磁电阻效应膜至少包括一个底层、一个自由层、一个非磁性层、一个被固定层、一个固定层和一个保护层，该磁电阻元件包括粒状结构层，该粒状结构层包括导电颗粒和薄膜形式的绝缘基质材料，该绝缘基质材料包含处于分散状态的所述导电颗粒并且其厚度小于所述导电颗粒的颗粒直径，该粒状结构层邻接于所述自由层和所述被固定层中的任何一个层。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||