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Fotomaskenrohling mit einer auf einem transparenten Substrat (1) ausgebildeten lichtabschirmenden Schicht (30), die mindestens zwei Lagen aufweist; wobei die lichtabschirmende Schicht (30) aufweist: eine lichtabschirmende Lage (2), die aus einem Material hergestellt ist, das Tantalnitrid enthält und außerdem Xenon enthält; und eine auf der lichtabschirmenden Lage (2) ausgebildete vorderseitige Antireflexionslage (3), wobei die vorderseitige Antireflexionslage (3) aus einem Material hergestellt ist, das Tantaloxid enthält und außerdem Argon enthält, wobei die lichtabschirmende Lage (2) eine Dicke hat, die dicker ist als die der vorderseitigen Antireflexionslage (3), und wobei die lichtabschirmende Lage (2) eine Druckspannung hat, während die vorderseitige Antireflexionslage (3) eine Zugspannung hat und sich die Druckspannung und die Zugspannung gegenseitig kompensieren, um die innere Spannung der lichtabschirmenden Schicht (30) insgesamt zu vermindern. |
