EXPOSURE METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE EXPOSURE METHOD,申请号JP19960238749-传众专利搜索

发明名称	EXPOSURE METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE EXPOSURE METHOD
摘要
申请公布号	JPH1092706(A)	申请公布日期	1998.04.10
申请号	JP19960238749	申请日期	1996.09.10
申请人	SONY CORP	发明人	SEKIGUCHI ATSUSHI
分类号	G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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