发明名称 正型阻剂组成物
摘要 一种具有卓越解析度的正型阻剂组成物,其具有与其它性能良好的平衡,该性能系阻剂所须要者,且其中包含硷可溶解的树脂、辐射线敏感性成分及由下式(I)代表之羟苯基酮化合物:其中R1、R2、R3、R4及R5系独立代表氢、烷基或烷氧基且n代表1至3之整数。
申请公布号 TW526387 申请公布日期 2003.04.01
申请号 TW089111651 申请日期 2000.06.14
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 森马洋;高田佳幸
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种正型阻剂组成物,其中包含硷可溶解的树脂、辐射线敏感性成分及由下式(I)代表的羟苯基酮化合物:其中R1.R2,R3,R4及R5系独立代表氢、烷基或烷氧基,且n代表1至3之整数。2.如申请专利范围第1项之正型阻剂组成物,其中二种的R1.R2及R3为氢。3.如申请专利范围第2项之正型阻剂组成物,其中所有R1.R2及R3为氢,或二种的R1.R2及R3为氢而余下者为烷基。4.如申请专利范围第1项之正型阻剂组成物,其中在式(I)中n为1,且羟基基团位于3-或4-位置,其系相对于羰基。5.如申请专利范围第1项之正型阻剂组成物,其中在式(I)中n为2或3且羟基基团位于2-位置,其系相对于羰基。6.如申请专利范围第1项之正型阻剂组成物,其中此硷可溶解的树脂为酚醛清漆树脂,且对应于聚合物其分子量在1,000或更低的树脂之图样面积在25%或更低,其系占总图样面积,除了未反应的酚化合物之区域外。7.如申请专利范围第6项之正型阻剂组成物,其中除了羟苯基酮化合物之外,进一步的包含硷可溶解的其分子量在1,000或更低的酚化合物。
地址 日本