发明名称 |
有机化合物的汽相沉积系统及汽相沉积方法 |
摘要 |
提供一种汽相沉积系统,它包括汽相沉积源、用于保持衬底的保持装置、移动装置,以及具有开口的开口元件,该移动装置在与包含衬底的平面平行的平面内一个方向上移动衬底、汽相沉积源,以及开口元件的至少一个,并且该开口元件布置在汽相沉积源和衬底之间,并且具有这样的开口,在移动方向上的在开口中心处的宽度小于在开口端部处的宽度。在该系统中,沿着作为与移动方向相交的方向的平面内一个方向布置多个汽相沉积源,并且开口元件具有多个开口,每个独立地布置,以便对应于多个汽相沉积源的每个。 |
申请公布号 |
CN101024875A |
申请公布日期 |
2007.08.29 |
申请号 |
CN200710004729.6 |
申请日期 |
2007.01.26 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
浮谷信贵 |
分类号 |
C23C14/24(2006.01);H05B33/10(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/24(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
秦晨 |
主权项 |
1.一种汽相沉积系统,包括:(A)多个汽相沉积源;(B)保持元件,用于保持要在其上形成膜的衬底;(C)布置在汽相沉积源和要在其上形成膜的衬底之间的开口元件,该开口元件具有分别独立放置以便对应于多个汽相沉积源的开口;以及(D)移动装置,用于在与包含要在其上形成膜的被保持衬底的平面平行的平面内的一个方向上,移动要在其上形成膜的衬底和汽相沉积源及开口元件中的至少一个,其中该多个汽相沉积源被沿着作为与移动方向相交的方向的平面内的一个方向布置,并且在移动方向上的开口中心处的宽度小于在开口端部的宽度。 |
地址 |
日本东京 |