| 发明名称 |
SURFACE INSPECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10163284(A) |
申请公布日期 |
1998.06.19 |
| 申请号 |
JP19960319058 |
申请日期 |
1996.11.29 |
| 申请人 |
SHIBAURA ENG WORKS CO LTD |
发明人 |
KUROKAWA SADAAKI;MATSUSHIMA DAISUKE |
| 分类号 |
G01N15/00;B24B49/12;G01N21/88;G01N21/94;G01N21/956;H01L21/304;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
G01N15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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