| 发明名称 | 具有改良的有光泽表面的电解铜箔 | ||
| 摘要 | 公开了一种经处理的电解铜箔,通过电沉积铜镀层对原料铜箔的有光泽表面进行改良和光滑;用这种铜箔制得的铜包层层压物以及用这种层压物制得的电路。较好的铜箔中,原料铜箔的有光泽表面通过电沉积铜镀层、电沉积在铜镀层上的铜树枝晶层、和电沉积在第一树枝晶层上的第二铜镀层而进行改良,同时在铜箔的无光泽表面上电沉积铜树枝晶层,并在该树枝晶层上电沉积铜镀层。 | ||
| 申请公布号 | CN1292834A | 申请公布日期 | 2001.04.25 |
| 申请号 | CN99803650.1 | 申请日期 | 1999.03.04 |
| 申请人 | 美国耶茨箔片股份有限公司 | 发明人 | C·B·耶茨;A·沃斯基;G·加斯基尔;C·T·程;K·博登多夫;P·迪弗雷纳 |
| 分类号 | C25D5/10;C25D5/16;H05K3/38 | 主分类号 | C25D5/10 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 1．一种铜箔，它包括具有无光泽表面和相反的有光泽表面的电解铜箔，在所述有光泽表面上电沉积的第一铜镀层，和在该铜镀层上电沉积的铜微粗糙层。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||