APPARATUS FOR CLEANSING SEMICONDUCTOR WAFER OF COATING SYSTEM
摘要
<p>본 고안은 반도체 코팅장비의 웨이퍼 세정장치에 관한 것으로, 본 고안의 웨이퍼 세정장치는 웨이퍼 후면에 뭍은 이물을 제거하기 위하여 별도로 작동되는 브러시 조립체를 웨이퍼 척의 일측에 설치하여 웨이퍼 후면을 털어 이물을 제거함으로써, 상기 웨이퍼의 코팅공정중에 그 후면에 발생되는 이물을 효과적으로 제거하게 되어 노광시 이물에 의한 빛의 산란을 미연에 방지할 수 있다.</p>
