| 发明名称 | 光学衰减器器件、辐射系统和具有它们的光刻装置以及器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光学衰减器器件，其操作成使用至少一个光学衰减器元件去除具有比平均强度更高的部分辐射光束。该器件可以在辐射系统和/或光刻装置尤其是扫描光刻装置中应用，其中在光束的中心部分例如垂直于扫描方向提供一些光学衰减器元件。 | ||
| 申请公布号 | CN1641414A | 申请公布日期 | 2005.07.20 |
| 申请号 | CN200410104508.2 | 申请日期 | 2004.12.30 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | C·P·A·M·鲁伊克西;V·Y·巴尼内;H·博特马;M·范杜伊霍文;M·F·A·厄林格斯;J·J·克里克;H·M·穆德;J·H·E·A·穆伊德曼;C·J·范杜伊恩 |
| 分类号 | G02F1/01;G03F7/20;G02B5/20;G02B1/11;H01L21/00 | 主分类号 | G02F1/01 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种在光刻装置中使用的用于改进辐射光束均匀性的光学衰减器器件，所述光学衰减器器件包括至少一个从所述辐射光束去除部分所述辐射的光学衰减器元件。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||