发明名称 一种发光装置及投影系统
摘要 本实用新型公开了一种发光装置,其包括第一光源阵列、第二光源阵列、合光单元阵列。合光单元阵列设置在第一光源阵列与第二光源阵列之间,合光单元阵列包括至少一个合光单元,合光单元包括反射装置和透反装置。本实用新型的第一光源将第一光发射至反射装置,第二光源将第二光发射至透反装置,反射装置将第一光反射至透反装置,透反装置透射第一光并反射第二光,使得从透反装置出射的第一光和第二光至少部分重合从而形成合光并沿预定方向出射,利用光的偏振特性,以及反射装置和透反装置的组合,可将发光装置最终形成的光斑之间的距离压缩,缩小后续光路中聚光透镜的口径,减小发光装置的整体体积。
申请公布号 CN205301795U 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201521088321.8 申请日期 2015.12.23
申请人 深圳市光峰光电技术有限公司 发明人 胡飞;侯海雄;李屹
分类号 G03B21/20(2006.01)I;G02B27/14(2006.01)I 主分类号 G03B21/20(2006.01)I
代理机构 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人 郭燕
主权项 一种发光装置,其特征在于,包括第一光源阵列、第二光源阵列、合光单元阵列;所述第一光源阵列包括至少一排第一光源组,所述第一光源组包括至少一个第一光源,所述第一光源用于发射第一光;所述第二光源阵列包括至少一排第二光源组,所述第二光源组包括至少一个第二光源,所述第二光源用于发射第二光;所述第二光源阵列和所述第一光源阵列相互平行面对设置,且一个第一光源和一个第二光源对应组成一个光源对,每个光源对中的第一光源和第二光源发出的光束之间具有预定距离的错位;所述合光单元阵列设置在所述第一光源阵列与所述第二光源阵列之间,所述合光单元阵列包括至少一个合光单元,每个光源对与预定的一个合光单元对应;所述合光单元包括反射装置和透反装置,所述反射装置设置在与其对应的第一光源发射的光束的光路上,用于对入射的第一光进行反射;所述透反装置设置在经反射装置反射后的第一光的光路上,同时也位于与其对应的第二光源发射的光束的光路上,用于对入射的第一光进行透射并对入射的第二光进行反射;所述反射装置和所述透反装置相对于第一光和第二光具有预定的入射角度以使得从所述透反装置透射的第一光和从所述透反装置反射的第二光都沿预定的合光方向传播且第一光和第二光所形成的光斑至少有部分重合,从而输出第一光和第二光的合光。
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