| 摘要 |
Verfahren zum Aufstreuen von Spänen, bei dem im Verfahren Späne (3) durch ein (11) oder mehrere (11, 2) Walzenwerke hindurch als Spanmatte (9) auf den rotierenden Bandförderer (8) oder ähnlichem aufgestreut werden und bei dem beim Aufstreuen als Hilfe Gasströmung verwendet wird, z. B. Luft, dadurch gekennzeichnet, dass der Gasstrom zumindest in zwei wesentlich kammerartige Räume (13, 12) geleitet wird, die sich ober- und unterhalb zumindest eines Walzenwerks (11) befinden und bei dem zumindest in einem kammerartigen Raum (12) die Richtung des Gasstroms (4) entgegengesetzt als in den anderen kammerartigen Räumen (13) ist. |
