CVD REACTOR AND USE THEREOF

摘要

Beschrieben wird ein CVD-Reaktor mit einem Reaktorgehäuse mit einem Deckel; einem in dem Reaktorgehäuse angeordneten geheizten Susceptor (Waferträger), auf dem wenigstens ein Wafer angeordnet werden kann; einem zentralen Fluideinlass, durch den insbesondere temperierte CVD-Medien etc. in den Reaktor eintreten, und einem Fluidauslass, der am Umfang des Reaktorgehäuses angeordnet ist, und durch den die eingelassenen Medien austreten. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass der Fluidauslass in etwa die Form einer Scheibe mit einer Vielzahl von Auslassöffnungen für die CVD-Medien etc. hat, und zwischen Susceptor (Waferträger) und Reaktordeckel derart angeordnet ist, dass der Fluidauslass durch Strahlung von Susceptor (Waferträger) beheizt wird, und sich damit auf eine Temperatur zwischen der Temperatur des Susceptors (Waferträgers) und dem Reaktordeckel einstellt, durch die die CVD-Medien etc. temperiert eintreten.