曝光机之近似平行光控制增益结构

摘要

本创作为一种曝光机之近似平行光控制增益结构，系是一种可阻断放射光线0°至10°左右以外之光线，即是限制只有0°至10°左右以内之光线射出曝光，形成近似平行光之光源，再利用往复位移曝光方式，以达提高曝光之准确精密度者。

主权项

1.一种曝光机之近似平行光控制增益结构,系是于一灯箱之底部设置一反光板、一紫外线灯管,于紫外线灯管上方设有数片横向间隔排列之阻光片,另设一隔热玻璃与数片纵向间隔排列之阻光板,该阻光板亦可设置为同步活动开、闭之阻光板可便于曝光完毕后完全阻断光源者;藉由,上述灯箱设置于曝光机内近透光台面一距离处并可位移活动,利用阻光片、阻光板加以阻断0至10左右以外之紫外线灯管放射光线,仅令0至10左右以内之光线通过,以往复方式位移放射于透光台面、原稿(棕片)、受曝光物进行曝光,以达降低误差与失真率、提升精密度者。图式简单说明:第一图、第二图(a)(b)为习知曝光之方式结构与缺失示意图第三图为本创作之曝光机之近似平行光控制增益结构立体透视示意图第四图为本创作之曝光机之近似平行光控制增益结构A-A剖面示意图第五图为本创作之曝光机之近似平行光控制增益结构B-B剖面示意图第六图(a)(b)为本创作之曝光机之近似平行光控制增益结构往复位移曝光示意图